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2021年6月21日 ITO（氧化铟锡）靶材的四种主要成型方法. Erin. 专注溅射靶材，真空镀膜材料研究与生产. 众所周知，ITO溅射靶材是将氧化铟和氧化锡粉按一定比例混合后，在 2016年1月4日 氧化铟锡（ indium-tin-oxide ）简称 ITO，ITO 靶材是一种功能陶瓷材料，主要用于制造 ITO 透明导电膜玻璃。 以金属铟、锡为原料采用共沉淀法制备出纳米级 ITO 纳米级氧化铟锡粉体和高密度ITO靶材的制备 - buct.cn
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铟锡氧化物(ITO)纳米粉体具有粒径小、比表面积大、分散性好、杂质少的特点,是制备性能良好的ITO薄膜的原料.本文介绍了目前ITO纳米粉体的制备方法如:喷雾燃烧法、溶胶-凝胶 纳米级铟锡化合物（ITO）是制造高密度的ITO靶材不可替代的原料，还可用于彩色电视机或个人电脑的CRT显示器、各种透明导电胶、防辐射及静电屏蔽涂料等。纳米氧化铟锡ITO粉末 - 广州宏武材料科技有限公司
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2022年6月17日 氧化铟锡 (Indium Tin Oxide，ITO)是一种应用最广泛的 n 型透明导电氧化物，具有优异的光电性能 [ 1] 。. 经磁控溅射 [ 2] 、脉冲激光沉积 [ 3] 、化学气相沉积 (CVD) [ 4] 、电子束蒸发 [ 5] 、喷雾热解 [ 6] 采用爆炸压实新工艺来成形 ITO 靶材, 可以降低对制粉. 1 应用现状及前景. 靶材是用作镀膜的材料. ITO 靶材的应用就必须从 ITO 膜的应用出发 . 铟锡氧化物 ( ITO ) 薄膜具有对可见 铟锡氧化物 (ITO) 靶材的应用和制备技术_百度文库
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2013年3月1日 铟锡氧化物（ITO）粉体及高性能ITO靶材的制备与研究. 下载积分： 800. 内容提示： I摘 要 本论文以热等静压制备铟锡氧化物ITO靶材的工艺流程为主线借助热分 2021年6月17日 压制成形是将松散的ITO粉末原料放入设计好的模具中，并施加一定的压力后便获得块状坯体的一种成形方法，在加压过程中 ITO 粉末发生颗粒位移、重新排列、 高致密ITO靶材制备工艺的研究现状及发展趋势--中国期刊网
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2024年4月19日 铟锡氧化物（ITO）薄膜作为一种关键的功能材料，在多种先进技术领域中发挥着核心作用。. 本部分将详尽地分析ITO薄膜的材料成分与性质，并深入探讨其主要 2022年11月2日 2、机械混合法制备满足ITO靶材要求的ITO粉浆的工艺技术； 3、大尺寸ITO靶材的成型技术； 4、ITO靶材烧结后最大单片尺寸≥1100mm的工艺技术。ITO靶材生产制造领域制粉关键技术的研究_科创中国
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2022年4月7日 一种ito靶材废料制粉系统 技术领域 1.本实用新型属于制粉技术领域，具体涉及一种ito靶材废料制粉系统。 背景技术： 2o（氧化铟锡）靶材是广泛应用于液晶显示器、触摸屏、多功能玻璃、晶体管等中的 2022年7月18日 昆明 (略) 建设ITO靶材氧化铟制粉项目 环境影响报告书第一次公示 根据《中华人民共和国环境影响评价法》、《建设项目环境保护管理条例》以及其它国家有关环保法律、法规的规定，云南保兴 (略) 受委托承担《昆明 (略) 建设ITO靶材氧化铟制粉项目环境影响报告书》的编制工作。昆明裕隆电子材料有限公司建设ITO靶材氧化铟制粉项目环境 ...
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2020年12月15日 本发明属于磁控溅射技术领域，尤其涉及一种由ito废靶直接粉碎制粉并生产ito靶材的制备方法。背景技术铟锡氧化物靶材，indiumtinoxide靶材，简称ito靶材，是氧化铟和氧化锡两种金属氧化物的混合物经高温烧结形成的陶瓷功能材料。由氧化锡掺杂氧化铟烧结的ito靶材，经真空磁控溅射镀膜后，可在 ...2022年4月7日 一种ito靶材废料制粉系统 技术领域 1.本实用新型属于制粉技术领域，具体涉及一种ito靶材废料制粉系统。 背景技术： 2o（氧化铟锡）靶材是广泛应用于液晶显示器、触摸屏、多功能玻璃、晶体管等中的新型高端材料。 由于对ito靶材的要求很高，在制作、清理、转运、包装和溅射使用过程中，因 ...一种ITO靶材废料制粉系统的制作方法 - X技术网
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2023年4月13日 ITO 靶材 ITO靶材以磁控溅射等方式用于导电玻璃的制备. ITO镀膜具有导电性、对可见光的透明性以及对红外线的反射性三个特性，其广泛用于显示屏、玻璃幕墙、触摸屏、太阳能电池、雷达屏蔽、冰柜、防雾玻璃等产品，尤以显示屏为大宗。2022年12月27日 什么是 ITO 靶材？1600℃高纯烧结的“氧化铟锡”材料ITO（氧化铟锡）靶材是溅射靶材中陶瓷靶材（化合物靶材）的一种，在显示靶材中占比将近 50%。ITO 靶材就是将氧化铟和氧化锡粉末按一定比例混合后经过一系列的生ITO：LCD、OLED、异质结光伏技术构建需求格局 - 知乎
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2020年4月29日 本发明涉及旋转ito靶材制备领域，尤其涉及一种单节长度一米以上的旋转ito靶材制备工艺。背景技术面版行业，旋转ito靶材，因工艺限制，一直只能生产300-500mm长度的靶材，使用时是采用拼接的方式，例如8.5代线靶材规格是2940mm长度，如果单节长度较短只有300-500的话，则拼接节数很多，有些厂家 ...2023年3月30日 vitalchem
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摘要： 用化学共沉淀法制得ITO粉体,通过剪切分散法制备ITO浆料, 采用XRD,TEM和SEM等对粉体,浆料进行表征与分析,研究工艺参数对浆料稳定性的影响.结果表明,ITO粉体晶体呈立方铁锰矿型结构,平均晶粒尺寸 分布在20nm左右,由此粉体制取无水乙醇浆料的最佳工艺条件是pH=3左右,剪切时间为30h,剪切速度为6000r ...2021年8月5日 铟锡氧化物-ITO在许多方面得到应用 ,如电学材料、透明电 极材料 、太阳能电池材料、电致发光材料等, 特别是氧化铟锡纳米晶体粉末在屏幕显示技术方面有着广泛的应用 。由ITO粉末制成的ITO靶材及其ITO导电膜在低压钠灯、建筑玻璃、炉门及冷冻食品显示 器等中起着红外发射作用, 在飞机 、火车 ...纳米铟锡氧化物-ITO粉制备方法-行业资讯-铋粒碲粉铟箔低 ...
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2020年4月29日 本发明涉及旋转ito靶材制备领域，尤其涉及一种单节长度一米以上的旋转ito靶材制备工艺。背景技术面版行业，旋转ito靶材，因工艺限制，一直只能生产300-500mm长度的靶材，使用时是采用拼接的方式，例如8.5代线靶材规格是2940mm长度，如果单节长度较短只有300-500的话，则拼接节数很多，有些厂家 ...单节长度一米以上的旋转ITO靶材制备工艺的制作方法 - X技术网
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2023年11月3日 ITO（Indium Tin Oxide，锡掺杂氧化铟）是一种应用广泛的透明导电材料。其具有优异的光学透过率和电导率，因此在液晶显示器(LCD)、触摸屏、光伏电池和有机发光二极管(OLED)等领域有着重要的应用。2011年5月15日 华中科技大学 博士学位论文 铟锡氧化物（ITO）粉体及高性能ITO靶材的制备与研究 姓名：****br>申请学位级别：博士 专业：材料学 指导教师：**皓;李晨辉 20050507 更 好 看 更 何 况 更 好 看论文：铟锡氧化物（ITO）粉体及高性能ITO靶材的制备与研究★
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2024年6月28日 根据《建设项目环境保护管理条例》(国务院令第682号)、《建设项目竣工环境保护验收暂行办法》（国环规环评[2017]4号）等要求，我公司“昆明裕隆电子材料有限公司建设ITO靶材氧化铟制粉项目”环保设施已竣工，环保设施于2024年6月28日开始调试，2024年7月8日完成调试。2023年8月29日 昆明裕隆电子材料有限公司应急预案备案前网络公示 昆明裕隆电子材料有限公司建设 ITO 靶材 氧化铟制粉项目 位于 云南安宁产业园区（安宁片区）千亿级绿色新能源电池（新材料）产业园，总投资 5000 万元，其中环保投资 125.2 万元，租 用昆明汇泉高纯半导材料有限公司的标准厂房、办公楼和宿舍 ...工程建设验收公示网
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2016年1月4日 技术简介 氧化铟锡（ indium-tin-oxide ）简称 ITO，ITO 靶材是一种功能陶瓷材料，主要用于制造 ITO 透明导电膜玻璃。 以金属铟、锡为原料采用共沉淀法制备出纳米级 ITO 复合粉体。 粉体造粒成型后分别采用加压和常压烧结法制备出相对理论密度大于 99.5%、氧化铟单一相的 ITO 靶材。受业主委托，中国采招网于2023年06月30日发布昆明市生态环境局拟审批《昆明裕隆电子材料有限公司建设ITO靶材氧化铟制粉项目环境影响报告书》的公示;项目简介： 根据建设项目环境影响评价审批的有关规定，现将拟审批的《昆明裕隆电子材料有限公司建设ITO靶材氧化铟制粉项目环境影响报告书 ...昆明市生态环境局拟审批《昆明裕隆电子材料有限公司建设ITO ...
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2023年5月18日 序号 文件名称 建设地点 建设单位 环评单位 受理时间 1 《 ***** 有限公司建设ito靶材氧化铟制粉项目 环境影响报告书》 云南安宁产业园区（安宁片区）千亿级绿色新能源电池（新材料）产业园 ***** 有限公司 云南 ***** 有限公司 2023年5月18日ITO制作工艺讲解-Biblioteka BaiduX 射线胶、离子束胶等。目前的开发重点是深紫外光刻胶和电子 束化学放大抗蚀剂(CAR)。CAR 是以聚 4-羟基苯乙烯为化学平 台，加入光产酸剂、交联剂及其他成分而成。ITO制作工艺讲解 - 百度文库
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ITO制作工艺-ITO就是在In2O3里掺入Sn后,Sn元素可以代替In2O3晶格中的In元素而以SnO2的形式存在,因为In2O3中的In元素是三价,形成SnO2时将贡献一个电子到导带上,同时在一定的缺氧状态下产生氧空穴,形成1020至1021cm-3的载流子浓度和10至30cm2/vs ...2021年7月9日 ITO所具有的宽光学带隙的特点是其作为高透射率薄膜材料的必要条件。ITO在各种领域中的应用，均围绕其透明和导电的优异特性。ITO薄膜的光学性质主要受两方面的因素影响：光学禁带宽度和等离子振荡频率。光电触摸显示屏背后的功臣：ITO靶材 - 电子工程专辑 EE ...
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2022年11月2日 需求背景 华锡集团承担我国首批锡多金属资源综合利用示范基地大厂矿田的开发，拥有国家及省部级创新平台10余个；承担国家及省部级科技项目30余项，获国家科技进步奖励15项，省部级科技奖励70余项，授权专利100余件，制定国家和行业标准30余项，为我国有色金属工业发展提供了强有力的支撑。2023年12月20日 ITO靶材，氧化铟锡（Indium Tin Oxide），一种重要的透明导电材料。在薄膜制备领域，ITO靶材作为一种基本的原材料，被广泛应用于电子和光电子设备中。它能在保持高透明度的同时，提供良好的电导性，这使得ITO成为制备透明导电薄膜的理想选择。揭秘ITO靶材：从定义到特性，一文读懂氧化铟锡
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2024年6月28日 根据《建设项目环境保护管理条例》(国务院令第682号)、《建设项目竣工环境保护验收暂行办法》（国环规环评[2017]4号）等要求，我公司“昆明裕隆电子材料有限公司建设ITO靶材氧化铟制粉项目”环保设施已竣工，环保设施于2024年6月28日开始调试，2024年7月8日完成调试。2017年8月23日 欧莱TFT G8.5面板用ITO靶材重大突破,达国际先进水平。高纯铜,高纯 2016年8月29日 在韶关工厂建设了8000平方米ITO专用厂房,建成ITO靶材的生产线,包含ITO制粉、成型、烧结、机加工、ITO废靶回收等完善的生产流程。 欧莱集团ito制粉
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2009年11月11日 ITO靶材是导电玻璃、LED、太阳能电池等行业的核心材料之一.综合评述了高密度ITO靶材的研究现状.介绍了ITO粉末的制备方法如机械混合法、喷雾热分解法、喷雾燃烧法、化学共沉淀法、金属醇盐水解法、水热合成法等以及ITO靶材的制备工艺.比较和分析了ITO粉体和靶材各制备工艺的优缺点.最后提出了 ...
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